【4月12日】集成电路光刻制造技术进展

2019-04-10

时间:2019-4-12,13:00

地点:松2207教室

主讲人:刘小虎

主讲人简介:

刘小虎,2012年毕业于东华大学材料学院(理学院共建方向),硕士研究生。目前在上海华力微电子有限公司工作,光刻工艺主任级工程师。熟悉55nm、28nm光刻制造工艺;熟悉NIKON和ASML I-line、KrF、ArF Dry、ArF IMM等各类型光刻机。曾赴日本NIKON公司进行培训,在公司NIKON和ASML浸没式光刻机量产及性能改善等方面做出重要贡献。

活动内容摘要:

从沙子到芯片,从PN结到IC,介绍集成电路制造的过程及相关模块;结合摩尔定律,重点讲解集成电路制造中的一项关键技术——光刻制造技术的原理、步骤以及技术进展;介绍国内集成电路制造相关公司和行业发展。

主持人:张菁